VS bezorgd over mogelijk ASML EUV-lek naar China

In dit artikel:

De Amerikaanse minister van Handel Howard Lutnick heeft in een reeks bilaterale gesprekken met leidinggevenden van ASML zijn bezorgdheid geuit dat een EUV-lithografiemachine naar China zou zijn gegaan, wat zou neerkomen op een schending van Amerikaanse exportrestricties. ASML ontkent dat; het bedrijf zegt nooit een EUV-machine, noch onderdelen of modules specifiek voor EUV, naar China te hebben geleverd. Het bedrijf benadrukt dat EUV-systemen schaars zijn, continu onderhoud van ASML-technici vereisen en fysiek enorm zijn (vergelijkbaar met een schoolbus en circa 180 ton), waardoor heimelijke verplaatsing onwaarschijnlijk is.

De uitspraak van Lutnick valt samen met een verstrakking van de Amerikaanse exportregels. In april 2026 introduceerden Amerikaanse wetgevers de MATCH Act, die niet alleen EUV maar ook DUV-immersionmachines en zelfs service aan bestaande machines in China wil verbieden. ASML verloor hierdoor marktaandeel in China: waar China eerder goed was voor 36% van de systeemverkopen, daalde dat aandeel in het eerste kwartaal van 2026 naar 19% door aangescherpte controles. De VS oefent daarnaast diplomatieke druk uit op bondgenoten zoals Nederland om exportlicenties voor DUV-apparatuur in China niet te verlengen. ASML zegt zich aan alle geldende wet- en regelgeving te houden.