Videoreport - ASML's allernieuwste chipmachine gaat naar België, en wij mochten mee!

In dit artikel:

ASML levert de machines die nodig zijn voor de allerkleinste chipstructuren, en er komt een nieuwe generatie: High-NA EUV. In een exclusieve blik achter de schermen is te zien hoe een 25 ton zware module van zo’n systeem recent naar de cleanroom van het Belgische imec werd vervoerd en daar met zorg naar binnen getakeld.

Technisch werkt de machine met extreem ultraviolet (EUV) licht dat ontstaat door tinneveltjes met krachtige lasers te verdampen; het licht wordt vervolgens geleid en gefocusseerd met zeer precieze, bolvormige spiegels van Zeiss. De High-NA-ontwerpfilosofie vergroot de numerieke apertuur van het optische systeem, waardoor nog kleinere transistorpatronen geprint kunnen worden. Dat biedt een route naar chips in de richting van de 1,4-nanometerklasse, al brengt het grotere optieken, afwijkende (anamorfische) beeldvorming en strengere fabricage- en uitlijnvereisten met zich mee.

De video legt ook praktische en logistieke knelpunten uit: het transport van enorme, gevoelige componenten, het opbouwen in een afgesloten, stofvrije omgeving en de technieken om procesdoorvoer en nauwkeurigheid te verbeteren. ASML’s combinatie van geavanceerde laserbron, vacuümhandling en Zeiss-optiek toont waarom het bedrijf onmisbaar is voor de meest geavanceerde halfgeleiderontwikkeling. Voor imec betekent de installatie van een High-NA EUV-systeem een belangrijke stap voor onderzoek en innovatie op het gebied van volgende-generatie nodes, ondanks de hoge kosten en complexiteit die met deze technologie gepaard gaan. De aflevering sluit af met beelden van de aankomst en de officiële opening bij imec, en een samenvattende kijk op de technische en organisatorische uitdagingen die nog moeten worden opgelost.