SK hynix ontvangt als eerste geheugenfabrikant ASML's nieuwe high-NA-euv-machine

In dit artikel:

SK hynix heeft in z’n M16-fab in Zuid-Korea een ASML TwinScan EXE:5200B geïnstalleerd en is daarmee de eerste geheugenfabrikant die zo’n high-NA EUV-machine ontvangt. Het bedrijf wil met het nieuwe systeem bestaande EUV-stappen vereenvoudigen en nieuwe processen voor geheugenchips ontwikkelen, maar maakte nog niet bekend wanneer de machine in vol-volume productie zal worden ingezet. ASML verwacht dat geheugenmakers dergelijke systemen grootschalig gaan gebruiken aan het begin van het volgende decennium.

De EXE:5200B is de eerste high-NA-EUV-machine geschikt voor massaproductie; de optiek heeft een numerieke apertuur van 0,55 (tegenover 0,33 bij eerdere EUV-systemen). Daardoor kan het systeem meer licht verzamelen en scherper belichten, wat het mogelijk maakt om kleinere transistorstructuren te printen zonder ingewikkelde multipatterning-technieken. ASML leverde in juli al een eerste exemplaar aan Intel, dat als eerste klant dergelijke high-NA-machines bestelde en een bijpassend proces (Intel 14A) op de roadmap heeft staan. Ook TSMC, Samsung en Micron hebben bestellingen bij ASML uitgezet. Voor wie dieper wil: er zijn uitlegartikelen beschikbaar over hoe EUV-apparatuur precies werkt en waarom high-NA belangrijk is.