High-NA-machines van ASML maken in de komende maanden hun eerste echte chips

In dit artikel:

ASML maakt bekend dat zijn nieuwe high‑NA EUV‑lithografiemachines binnen enkele maanden voor het eerst echte productwafers voor geheugen- en logicachips zullen belichten. CEO Christophe Fouquet deed de aankondiging tijdens ITF World in Antwerpen. Dit is een doorbraak: tot nu toe werden die systemen vooral in laboratoria gebruikt om niet‑functionele teststructuren te maken, niet om werkende chips te produceren.

De eerste runs zullen kleinschalige testrondes zijn bij een aantal klanten om te bewijzen dat de machines geschikt zijn voor commerciële productie; het is nog niet bekend welke chipfabrikanten precies deelnemen. Op grotere schaal moet high‑NA de komende jaren in nieuwere productietechnologieën worden ingezet; Intel heeft het als optie opgenomen in zijn openbare roadmap voor het 14A‑proces, gepland vanaf 2028.

High‑NA is de volgende stap in ASML’s EUV‑techniek: na ongeveer tien jaar ontwikkeling werd vorig jaar de eerste voor productie geschikte machine geleverd, en dit jaar kreeg onderzoeksinstituut imec er één. De techniek maakt fijnere patroonering mogelijk en is cruciaal voor toonaangevende foundries zoals TSMC, Samsung en Intel die streven naar krachtigere, efficiëntere chips.