China zit Canon achterna met chipmachine als ASML-alternatief
In dit artikel:
Chinaans bedrijf Prinano heeft recent zijn eerste zelfontwikkelde nanoimprint-lithografiemachine (de PL-SR-serie) afgeleverd bij een Chinese klant voor speciale chipprocessen, meldt TrendForce. Het inkjet step-and-repeat-systeem doorstond de inspecties en zou structuren kunnen afdrukken met lijnen kleiner dan 10 nanometer. Daarmee overstijgt Prinano op papier sommige eigenschappen van Canon’s FPA-1200NZ2C (Canon spreekt van 14 nm en claims rond 5 nm-productie), al waarschuwen experts dat Prinano’s apparaat nog niet geschikt is voor het maken van geavanceerde 5 nm-logische chips.
Nanoimprint-lithografie (NIL) verschilt fundamenteel van de dure EUV-technologie waarin ASML vrijwel het monopolie heeft: in plaats van complexe lichtbronnen en optiek wordt het patroon als het ware op de wafer gestempeld. Dat maakt NIL-machines goedkoper en energiezuiniger, maar ze zijn doorgaans trager en minder goed in het reproduceren van uiterst complexe patronen zoals die in processors en system-on-chips. Voor geheugenproducten zoals NAND-flash, met relatief eenvoudige rasterstructuren, is NIL wel aantrekkelijk — precies het marktsegment waarop Prinano zich lijkt te richten.
De ontwikkeling valt samen met een hernieuwde commerciële push van Canon; eind 2024 leverde Canon zijn eerste commerciële NIL-machine aan het Texas Institute for Electronics, een onderzoeksconsortium gesteund door onder meer Intel, NXP, Samsung en DARPA. Canon wil binnen enkele jaren jaarlijks enkele tot tientallen systemen produceren en zet NIL in als alternatief dat mogelijk ook nog fijnere nodes (Canon noemt zelfs potentiële 2 nm) zou kunnen bereiken. Tegelijk bestaan er grote technische obstakels voor grootschalige NIL-productie: luchtbellen tussen stempel en wafer, extreme temperatuurgevoeligheid en lage opbrengsten blijven knelpunten.
Voor China heeft Prinano’s levering een strategische betekenis: het reduceert afhankelijkheid van westerse high-end lithografietechnologie, die aan exportcontroles is gebonden. Dat maakt de stap niet alleen technisch relevant maar ook politiek-symbolisch. De opkomst van zowel Prinano (met focus op geheugen) als Canon (met high-end onderzoeksdoelen) geeft NIL nieuwe geloofwaardigheid en plaatst een alternatief naast ASML’s EUV, wat de mondiale dynamiek in de halfgeleiderindustrie kan beïnvloeden.